导言
自 1595 年发明显微镜 [1]、19 世纪 50 年代发现荧光和首次描述光学显微镜观察染色样品[1]以来,宽场(WF)荧光显微镜已成为一种广泛使用的成像技术,使工程和科学学科受益匪浅。我们对科学的好奇不断推动着显微镜的发展,其目标是观察和解析更多的结构细节。然而,由于光的波动性和光学元件对光的衍射,图像分辨率受到被称为衍射极限的限制。在 宽场荧光显微镜中,拍摄图像的对比度和分辨率会因多种原因而降低,其中包括:从相邻平面收集的光线、散射光和相机传感器噪声,所有这些都会增加图像的朦胧/模糊(背景噪声)。图像分辨率和对比度的其他损失可能与系统的光学响应函数,或通常称为点扩散函数(PSF)有关。PSF 描述了理想化的点光源在探测器平面成像时的样子,它就像一个低通滤波器,滤除了图像中的高频信息(图 1)。
在数学上,图像形成 (i) 可以表示为观测物体 (o) 与添加了噪声(泊松和/或高斯 - ε)的 PSF (h) 之间的卷积 (*),如公式1
图 1:物体与系统光学响应(PSF)的卷积会产生模糊图像。原始图像(a)被高斯噪声(b)破坏,并与合成 PSF(二维高斯函数)卷积(c),得到(d)所示的模糊图像。(e)和(f)分别描述了卷积前和卷积后的频域图像。图像与 PSF 的卷积起到了低通滤波器的作用,去除了图像中的一些高空间频率内容(f - 红色箭头;与 e - 红色箭头比较)。图像在 Matlab 2020a (MathWorks, Natick MA)中生成,测试目标取自维基百科。
什么是反卷积?
反卷积是一种用于恢复被 PSF 和噪声破坏的物体图像的计算方法。给定获取的图像 i、观测对象 o 和 PSF 信息(可通过理论或实验确定),可以通过反卷积过程还原公式 1中的观测对象。要进行反卷积,需要通过傅立叶变换将物体和 PSF 变换到频域,如公式 2 所示:
泊松噪声处理 [2,3] 和
高斯噪声处理 [10] 。公式 4 中的 i 和 o 已在之前定义,h+ 是翻转的 PSF。然而,与公式 3 类似,RL 反卷积方法容易受到放大噪声的影响,导致反卷积被噪声所主导 [2,3],如图 2 所示。限制放大图像噪声的部分处理方法是提前终止收敛,或仔细选择一个 ok 值,并用低通滤波器(如高斯滤波器)对其进行预模糊处理 [2,3]。最近,人们提出了一些新的反卷积方法,这些方法使用正则化项,可以添加到算法中,对反卷积进行约束。这类正则化技术包括 Tikhonov-Miller、 Total-Variation和 Good 氏粗糙度等方法 [2,4-9]。这些正则化项的目的是对反卷积进行惩罚,以限制图像噪声和伪影的产生,从而达到保留图像细节的目的。
其中,γ 是正则化项,∇ 是微分算子,h 是吉布森-兰尼 PSF。在公式 5 中,正则化项 γ 取决于局部信噪比(SNR),是在整个图像上创建的自适应信噪比(x,y)系数的函数,如图 3 所示。同时,γ∫1[∇o]2 对反卷积起惩罚作用,正则化项与 SNR (x, y) 的非线性关系为:
SNRmax 是预先确定的最大信噪比值,γmax 是预先确定的最大正则化值。结果就是公式 5 中的自适应正则化,与信噪比较高的区域相比,信噪比较低的区域的反卷积会受到更大的惩罚。这样,整个图像的反卷积过程都得到了适当的正则化,避免了图像伪影和噪声放大。
使用徕卡显微系统提供的反卷积算法,用户可以定义反卷积的迭代次数,或使用默认选项让算法决定收敛的停止标准。后一种选项更省时,而且用户无需猜测反卷积的效果。与徕卡显微系统的 Instant Computational Clearing (ICC) 算法类似,所述自适应反卷积方法包含在所有THUNDER成像系统中,并完全集成到成像工作流程 [12]。
THUNDER:ICC 和反卷积
宽场荧光图像的反卷积效果取决于多个因素,包括从相邻平面收集的光量、样品厚度、散射光的程度以及图像的信噪比。例如,在厚度较大的样本中,样本内部可能会发生明显的光散射,导致反卷积无法生成具有更高分辨率和对比度的复原图像。对于信噪比较高、背景噪声极小的样本,反卷积可能会产生过度处理的图像,导致图像特征之间出现不必要的尖锐边界转换。因此,成像工作流程必须能够适应不同厚度、不同信噪比的样品。
在之前的技术简介中,我们讨论了 徕卡显微系统的 ICC 算法,这是一种通过去除背景噪声来恢复图像对比度的方法。该算法通过最小化非二次成本函数来估计和减去图像中的背景噪声,从而提高对比度 [12]。为了解决前面提到的反卷积缺陷,徕卡公司推出了一种结合两种计算算法的工作流程,允许用户执行 ICC 或 ICC 与反卷积。对于后者,可根据样本厚度和信噪比在两种不同的处理模式之间选择配对,分别称为小体积和大体积 Computational Clearing(SVCC 和 LVCC)。
使用 SVCC 时,自适应反卷积在THUNDER ICC 之前进行。在 SVCC 中,理论的 PSF 被用于了解系统光学参数(显微镜物镜类型、发射波长、样品包埋介质等)的反卷积。选择使用 SVCC 对 "噪声 "图像尤为重要,图 4,因为在通过 ICC 自动去除不需要的背景之前,自适应反卷积将提高信噪比,如图 4C。在 LVCC 中,ICC 在反卷积之前进行,并使用受 ICC 参数影响的 PSF。LVCC 非常适合信噪比较高、背景噪声较多的样本,这在厚样本中很常见,图 5。通过在反卷积之前执行 ICC,空间特征的对比度得到增强(图 5C),从而可以通过反卷积对剩余信号进行更精确的处理。
对于 SVCC 和 LVCC,ICC 的强度是用户可调的。强度参数 (s) 可调节从图像 (I) 中减去估算的背景强度 (I-background) 大小,从而得到最终图像 (I'):
通过强度参数,SVCC 和 LVCC使用户可以根据样本特点对计算算法进行微调,从而对数据进行最佳处理。与 ICC 一样,SVCC 和 LVCC 都可以应用在图像采集过程中或采集之后,并始终保留原始数据。这意味着用户可以直接将原始数据与处理后的数据进行比较,以便进一步量化。量化主题将在下一期技术简报中讨论。