宽离子束研磨介绍
宽离子束研磨利用离子化氩气轰击样品,并从样品中物理溅射原子。在横截面中进行切割(也称为斜面切割)时,如这里所示,碳化钨掩模位于离子束和样品之间,用于定义横截面的位置,并保护样品的前表面。如果操作得当,无论样品材料的性质或成分如何,斜面切割过程都会产生原始横截面。
电子显微镜分析用锂电池的分步制备
在本应用注意事项中,机械制备和宽离子束研磨相结合,用于制备电池系统的两个组件——锂镍锰钴氧化物/铝(Li-NMC/Al)电极和铅(Pb)板栅。对于两种样品,机械制备和离子研磨遵循相似的方案。使用徕卡显微系统EM TXP靶表面处理系统进行机械制备,这是一种高精度的台式设备,可用于锯、磨、抛光和碾磨样品,并可进行原位样品观察。在徕卡EM TIC3X宽离子束研磨系统上进行离子研磨,以获得最终的原始横截面。
制备方案
Li-MNC极片材料和铅栅板这两个样本都使用双组分环氧树脂安装在载玻片之间,然后固定在徕卡TIC3X样品架上,再使用TXP制备。将样品固定在载玻片之间为样品提供了额外支撑,也不必将样品完全包埋在环氧树脂等其他固定材料中。这也减少了需要削洗和抛光的表面积,并使样品在整个工作流程中都安装在单个样品托上。
a)机械制备
然后将样品安装在TXP夹头上,并使用金刚石研磨箔在TXP上研磨至9微米光洁度。然后将样品倾斜至60°角,并使用400粒度的碳化硅砂纸在正面载玻片上磨出斜面。这从横截面表面移除了多余的玻璃,减少了离子研磨器工作量,因此加快了离子研磨过程并增加了产量。制备时间大约20分钟。
b)用三离子束研磨仪进行研磨
然后将样品托直接安装在TIC3X适配器上,用于室温下斜面切割标准阶段中的离子研磨。每个样品在8 kV下研磨。Li-MNC电极的研磨时间是3小时,铅栅板是6小时。样品尺寸不同导致研磨时间有差异。
扫描电镜分析
图1和2展示了Li-MNC电极样品的SEM图像。图1显示了该样品完整的层级堆叠,包括用于安装样品的两片玻璃和电极的氧化物/金属夹层结构。图2显示了感兴趣的样品材料更高倍数的放大图像。这些图像中样品光滑无缺的表面体现出卓越的制备品质。这些结果可用于确定电极材料中的颗粒尺寸和分布。此外,可以对整个电极样品以及各层进行精确的厚度测定。同样令人感兴趣的是结构中央位于多孔膜和金属膜之间的界面。这些图像显示了金属膜如何与多孔层的纹理保持一致(用红色箭头表示),如果结构中存在分层,也可以从这些图像中看出。